CVD装置の製品一覧
キッツエスシーティーは製造・加工機械や半導体製造装置における安全対策に特化した製品を提供しています。CVD装置のガス供給ラインバルブに関する事例を集めた「流路まるごと事例集」を無料配布。バルブの半開状態や閉止確認の手間や時間の削減などのお悩みに対して様々な提案を行っています。詳細はホームページでご確認ください。
株式会社ハイテック・システムズが提供する「EVADシリーズ」は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能なCVD、PECVD横型炉装置です。フロー管理システムを搭載し、粉体へも高温での処理が可能となっています。シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布制御に加え、PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存にも対応。ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜する幅広い用途に対応し、様々な産業分野での利用が期待されています。詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
テルモセラ・ジャパン株式会社の【Nanofurnace】BWS-NANOは、小型で高性能な熱CVD装置です。グラフェンやカーボンナノチューブ、ZnOナノワイヤ、SiO2などの絶縁膜など、幅広いアプリケーションに対応しています。基礎研究に最適なコンパクトサイズでありながら、高い性能を持つため、さまざまな製造・加工機械や半導体製造装置に活用することができます。ホットウオール式熱CVD装置として、最適な製品です。
【nanoCVD-8G/8N】は、大型製造装置を使用せずに短時間でグラフェン・CNT合成を行うことができる装置です。コールドウオール式の高効率・高精度プロセスコントロールにより、急速な昇温や高精度な温度流量制御ができます。1バッチわずか30分で合成が完了するため、実験の効率化が可能です。
D501は、少量生産や不定形基板へのシリコン酸化膜（SiO2膜）の成膜に適したバッチ式常圧CVD装置です。特徴として、異形状やサイズの異なる基板を同時に処理でき、成膜速度が高いため効率的です。さらに、メンテナンスが簡単でフットプリントも小さく、ランニングコストも低いです。主な用途として、層間絶縁膜や拡散/インプラ用ハードマスク、保護膜・絶縁膜などがあります。
製造・加工機械や半導体製造装置、CVD装置の製造と販売を行っています。真空蒸着フィラメントやボートにも特化し、規格品だけでなく、オリジナルや特注も提供しています。ホームページで製品の詳細を確認できますので、お問い合わせください。少量パックのオンライン販売も行っていて、必要な分を必要な時に簡単に購入できます。また、コスト対策や改良したい面についても相談に乗ります。取り扱い製品の幅広さと信頼性の高さが当社の特徴です。
株式会社ピー・ジェイが製造・加工機械、半導体製造装置、CVD装置などの半導体製造ガスラインに使用される集積化ガスシステム対応ガスフィルターを提供しています。
各種真空装置内でのウエハの応力・反り・曲率・異方性などをリアルタイムに、高精度な測定ができます。成長メカニズムの基礎データ収集だけでなく、CVDやMBE、PVDといった真空成膜装置やエッチング、アニーリングといった真空プロセス装置にも対応しています。従来のレーザー反射計測法よりも10倍以上の感度を持ち、100Hzの高速計測、さらに低格子不整合材料や、ウェハの厚膜やパターニングされたウェハも測定が可能です。その他、安定性が高くアライメントフリー測定を実現しており、白色光源の採用により反射率の変化に影響がありません。さらに、他のソフトウェアとデータを共有することもできます。この製品は、曲率測定レンジが0.0008～200,000 Km-1、半径レンジが1,250,000～0.005mです。
Agnitron社が開発した製品であり、高精度かつ高安定性を備えた温度モニターです。その特徴として、圧倒的な温度制御の精度と正確さ、メンテナンス後のキャリブレーション時間の短縮、Run to Runの再現性の向上を挙げることができます。さらに、単波長および二波長反射率オプションも搭載しており、広範囲の温度計測にも対応可能（最大1800℃）。この製品は、半導体製造装置やCVD装置などの製造・加工機械分野で幅広いアプリケーションに活用できます。
先端化合物半導体のエピ成長に最適な機械で、研究開発用から量産機まで幅広い需要に対応します。柔軟性が高く、先端技術を備えており、シングルまたはデュアルチャンバの構成が可能です。
製造・加工機械および半導体製造装置の製造・加工に特化した企業です。泰東グループとして、お客様とのお約束を大切にし、OEM製造を主に行っております。手がけた製品は数え切れないほどあり、多様な製品ラインナップで多岐にわたるニーズに対応。
シルサーム・ジャパン株式会社は、静止空気以上の断熱性能を持つ『シルサーム断熱材』を製造しています。ヒュームドシリカを原料とした微細な多孔質構造体で、最高1600℃の環境でも使用可能です。従来の断熱材に比べて5〜10倍の断熱性能を実現しており、導入することでCO2削減や省エネ効果、歩留まり改善などのメリットが得られます。
ナラサキ産業株式会社は、製造・加工機械や半導体製造装置向けのCVD装置を提供しています。また、耐熱300℃以上の各種スーパーエンプラの取扱いも行っており、高耐熱樹脂の材料枯渇に代替提案を行っているのが特徴。半導体業界において広く使用される『スーパーエンプラ』は、汎用からエンプラまでの環境下でも使用可能な特性を持っています。当社は国内および海外製の提案が可能であり、材料販売や受託加工も行っています。
株式会社ダルトンのポーラスシリコン形成装置は、電流密度や使用薬液の調整により、多孔質シリコンウエハーを形成。従来の陽極酸化装置にさらに応用したこの装置は、革新的な技術を活用しています。
モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社は、製造・加工機械や半導体製造装置に使用される高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品を提供しています。特に、GaN半導体 MOCVD用機能部品は、窒化物の単結晶成長からウェハプロセスまで対応し、多岐にわたる半導体製造装置に使用可能。また、Momentiveの『超高温用ヒータ』、『窒化ホウ素製品群』および『グラファイト保護コーティング』は、高温の腐食性ガス雰囲気に耐性があり、窒化物単結晶成長やエピタキシャル装置の機能部品として多くの実績を有しています。
A200Vは、層間絶縁膜やパッシベーション膜などのシリコン酸化膜の成膜を目的とした高性能な常圧CVD装置です。少量多品種向けのニーズにも対応しており、8インチSiCウェハにも対応しています。枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜や密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性を備えています。ウェハ反り矯正機能や低負荷・長周期メンテナンス、省スペース対応などの特長もあります。パワー半導体用層間絶縁膜や拡散/インプラ用ハードマスク、光導波路としてお使いいただけます。詳細はお問い合わせください。
ジャパンクリエイト株式会社が提供する"酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置"は、2周波独立印可方式を採用し、低応力、高硬度、高絶縁性の特性を実現します。さらに、ラジカルプラズマクリーニングシステムによるパーティクル低減と生産性を向上。マルチチャンバ仕様やオーダーメイド製作も可能で、膜厚分布や特殊表面処理の要求にも応えます。
日星産業株式会社は製造・加工機械の分野で活躍する企業です。同社の主力製品は半導体製造装置であり、特にCVD装置などの成膜装置に優れた技術を持っています。Pishowシリーズのドライエッチング機種は、シリコンや金属、化合物半導体など多様な材料に対応可能であり、幅広い温度の工程にも対応可能です。また、エッチングの速度と均一性を精密に制御することができ、BOSOH工程にも対応しています。さらに、Shale Cシリーズの成膜機種はICP CVDにより低温条件で緻密な成膜を実現し、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めにも適用可能。これらの製品はヨーロッパ発の技術を取り入れており、実験から量産まで幅広く対応することができる汎用性の高い装置です。
株式会社フロー・ジョイントは、製造・加工機械の分野で活躍しており、特に半導体製造装置におけるトランスデューサーの開発に力を入れています。当社の半導体用トランスデューサーは、コンパクトなデザインでありながら、防爆指令対応（ATEX Zone2）や保護等級NEMA4（IP67）を備え、さらにケースサイドから優れたEMC対応品として使用することで温度補正も優れています。