D501は、少量生産や不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜に適したバッチ式常圧CVD装置です。特徴として、異形状やサイズの異なる基板を同時に処理でき、成膜速度が高いため効率的です。さらに、メンテナンスが簡単でフットプリントも小さく、ランニングコストも低いです。主な用途として、層間絶縁膜や拡散/インプラ用ハードマスク、保護膜・絶縁膜などがあります。
D501は、少量生産や不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜に適したバッチ式常圧CVD装置です。特徴として、異形状やサイズの異なる基板を同時に処理でき、成膜速度が高いため効率的です。さらに、メンテナンスが簡単でフットプリントも小さく、ランニングコストも低いです。主な用途として、層間絶縁膜や拡散/インプラ用ハードマスク、保護膜・絶縁膜などがあります。
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