A200Vは、層間絶縁膜やパッシベーション膜などのシリコン酸化膜の成膜を目的とした高性能な常圧CVD装置です。少量多品種向けのニーズにも対応しており、8インチSiCウェハにも対応しています。枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜や密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性を備えています。ウェハ反り矯正機能や低負荷・長周期メンテナンス、省スペース対応などの特長もあります。パワー半導体用層間絶縁膜や拡散/インプラ用ハードマスク、光導波路としてお使いいただけます。詳細はお問い合わせください。