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ジャパンクリエイト株式会社
酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置
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ジャパンクリエイト株式会社が提供する"酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置"は、2周波独立印可方式を採用し、低応力、高硬度、高絶縁性の特性を実現します。さらに、ラジカルプラズマクリーニングシステムによるパーティクル低減と生産性を向上。マルチチャンバ仕様やオーダーメイド製作も可能で、膜厚分布や特殊表面処理の要求にも応えます。

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ジャパンクリエイト株式会社が提供する"酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置"は、2周波独立印可方式を採用し、低応力、高硬度、高絶縁性の特性を実現します。さらに、ラジカルプラズマクリーニングシステムによるパーティクル低減と生産性を向上。マルチチャンバ仕様やオーダーメイド製作も可能で、膜厚分布や特殊表面処理の要求にも応えます。

ジャパンクリエイト株式会社
マップアイコン 埼玉県所沢市林1丁目203番地4
業種 試験・分析・測定

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