アニール炉の製品一覧

神港精機株式会社は、製造・加工機械として、半導体製造装置やアニール炉を提供しています。その中でも注目すべきは、300mmウェハ対応のポリイミドキュア装置で、300mmウェハをカセット単位で高均一性熱風加熱による熱処理を行うことができます。真空置換後の低酸素雰囲気（N2）中での処理であり、システムLSIポリイミドキュアやフレキシブルプリント基板キュア・アニールにも対応しています。300mmウェハに対応したキュアリングで高品質化と量産化を両立させることが可能です。

株式会社ハイテック・システムズが開発したRTP装置『AS-Master 200』は、アニール処理後の急速冷却機構を備えています。最大200mm径基板対応で、真空や大気搬送装置、ターボポンプの搭載も可能です。低温(1100℃)/高温(1300℃)のパイロメーターを使用し、大気または真空下のプロセスに対応しています。

水素アニール装置は、大気圧水素雰囲気中で均一加熱を行うことができ、薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板などの高品位化を実現します。また、デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理にも最適です。安全性と信頼性にも重点を置いたハード構成が特徴で、高品質な電極・配線膜や研磨後のウェハの終端処理、特殊用途の熱処理などに幅広く対応しています。

MiniLab-CFは、3種類のヒーター材料を使用した超高温マルチ雰囲気実験炉です。最高温度はMax2900℃で、様々な環境に対応できます。特に新素材・新材料開発や半導体・電子部品・燃料電池・太陽電池などの先端技術開発に活用されています。

マルチ雰囲気ウエハーアニール装置です。最大2000℃まで対応し、真空、不活性ガス、還元雰囲気での使用が可能。ヒーター材質は、高純度グラファイト、SiC3（炭化珪素）コーティング、TiC3（チタン・カーバイド）コーティングの3種類から選ぶことができます。

当社の縦型真空アニール装置は、クリーンな真空環境で均一に加熱できる優れた性能を持っています。最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応しており、ウェハプロセスに最適です。中温から高温まで安定した温度分布性能を提供し、急冷機構により短い処理時間での実現します。さらに、真空以外にも不活性、酸化、還元など、様々な雰囲気処理も可能な多機能型の熱処理装置です。

化合物半導体用の電極膜アニール装置を提供しています。石英管タイプであり、化合物半導体の電極膜の合金化や低抵抗化に使用する装置です。最大900〜1000℃まで対応する高温処理型に急冷機構を備え、透明電極膜にも対応しています。急速昇降温型の加熱炉を搭載し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニール処理をコントロール。お客様の生産量やプロセスに合わせて最適な装置構成を提案することも可能です。

『フラックス「ポタ落ち」おまもりフィルター』は、リフロー炉内などで基板にフラックスが落下するのを防ぎ、不良率の低減に貢献する製品です。搬送レールの上に設置するだけで簡単に取り付けられ、洗浄後は繰り返し使用できます。最大98%の気孔率を持つ多孔質金属体で落下してきたフラックスを捕捉し、溶剤を拭き取る手間も削減できます。専用の洗浄液も用意しています。

ゴム材料の中でも最高の耐熱性を持つフッ素ゴムシートを製造・加工しています。耐薬品性・耐油性・耐候性にも優れた材質であり、低分子シロキサンを敬遠する弱電関係の用途にも利用されています。低硬度品や超耐薬品グレードも取り扱っており、さまざまな要件に応えることができます。

Transpector MPS/MPHは真空装置のプロセスモニタに最適な残留ガス分析計(RGA)です。業界最高クラスのデータ収集速度、最小検知分圧(MDPP)、S/N比を実現しており、全圧測定や分圧測定、ヘリウムリーク検査も可能。専用ソフトウェアは見やすく操作も簡単です。

半導体材料やその他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリングすることができる装置です。キセノンフラッシュランプを使用して表面のみ加熱する為、フレキシブル基板や耐熱温度の低い基板の膜のアニーリング処理などに適しています。コンパクトで使い勝手が良く、研究開発用途に最適です。詳細はお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

日本化材株式会社は、アニール炉や洗浄剤の製造において、カネコ化学との協力体制で高品質な製品を提供しています。カネコ化学で製造している各種洗浄剤は、技術資料もございますので、詳細な情報をお求めの方はお問い合わせください。