半導体材料やその他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリングすることができる装置です。キセノンフラッシュランプを使用して表面のみ加熱する為、フレキシブル基板や耐熱温度の低い基板の膜のアニーリング処理などに適しています。コンパクトで使い勝手が良く、研究開発用途に最適です。詳細はお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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