化合物半導体用の電極膜アニール装置を提供しています。石英管タイプであり、化合物半導体の電極膜の合金化や低抵抗化に使用する装置です。最大900〜1000℃まで対応する高温処理型に急冷機構を備え、透明電極膜にも対応しています。急速昇降温型の加熱炉を搭載し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニール処理をコントロール。お客様の生産量やプロセスに合わせて最適な装置構成を提案することも可能です。
化合物半導体用の電極膜アニール装置を提供しています。石英管タイプであり、化合物半導体の電極膜の合金化や低抵抗化に使用する装置です。最大900〜1000℃まで対応する高温処理型に急冷機構を備え、透明電極膜にも対応しています。急速昇降温型の加熱炉を搭載し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニール処理をコントロール。お客様の生産量やプロセスに合わせて最適な装置構成を提案することも可能です。
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