水素アニール装置は、大気圧水素雰囲気中で均一加熱を行うことができ、薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板などの高品位化を実現します。また、デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理にも最適です。安全性と信頼性にも重点を置いたハード構成が特徴で、高品質な電極・配線膜や研磨後のウェハの終端処理、特殊用途の熱処理などに幅広く対応しています。
水素アニール装置は、大気圧水素雰囲気中で均一加熱を行うことができ、薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板などの高品位化を実現します。また、デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理にも最適です。安全性と信頼性にも重点を置いたハード構成が特徴で、高品質な電極・配線膜や研磨後のウェハの終端処理、特殊用途の熱処理などに幅広く対応しています。
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