最大200mmのウエハ基板または300mm×500mmの基板に対応する製品です。イオンビームスパッタリング(IBS)、イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイオンビームスパッタリング(DIBS)のプロセスの実行が可能。最大5個(220mm直径)または4個(300mm直径)のターゲットを搭載し、RFソース(120mm〜350mm)とリニアマイクロウエーブECRソース(2×380mm長)も使用できます。
最大200mmのウエハ基板または300mm×500mmの基板に対応する製品です。イオンビームスパッタリング(IBS)、イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイオンビームスパッタリング(DIBS)のプロセスの実行が可能。最大5個(220mm直径)または4個(300mm直径)のターゲットを搭載し、RFソース(120mm〜350mm)とリニアマイクロウエーブECRソース(2×380mm長)も使用できます。
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