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株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
デベロッパー
高圧から柔らかい霧まで自在に調整可能!2流体スプレーレジスト現像装置
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2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置は、高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在に調整が可能で、厚膜などの現像時間を短縮することに効果を発揮します。N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式で、スプレーの吐出圧力や形状、広がり角度などを自由に設定可能です。さらに、マニュアル機からフルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、高品質かつ低価格を実現しました。製品には多彩な薬液の実績もあります。デモ設備の常設も行っております。

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高圧から柔らかい霧まで自在に調整可能!2流体スプレーレジスト現像装置
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2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置は、高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在に調整が可能で、厚膜などの現像時間を短縮することに効果を発揮します。N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式で、スプレーの吐出圧力や形状、広がり角度などを自由に設定可能です。さらに、マニュアル機からフルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、高品質かつ低価格を実現しました。製品には多彩な薬液の実績もあります。デモ設備の常設も行っております。

株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
設立年:1999年 資本金:4000万円
マップアイコン 埼玉県さいたま市西区三条町27-1
業種 電子部品・半導体

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