モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社は、半導体製造装置、スパッタリング装置に特化した製品を提供しています。その中でも、SiC半導体製造用機能部品は、2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品です。Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』を使用しており、SiC単結晶成長炉やエピタキシャル装置の部品として多くの実績を持っています。タンタルカーバイドは2000℃以上の超高温にも耐えられ、複雑な形状にも被覆することが可能。さらに、静電チャックは1000℃までのプロセスに対応し、設計の自由度も高いです。