スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』は、高機能かつコストパフォーマンスに優れた研究開発用装置です。到達圧力5 x 10-5Paまで最速30分で、連続多層膜制御や同時成膜などの機能を備えています。さらに、最大3源のスパッタ源や多彩なオプションを組み合わせることで、多目的に使用可能。また、7"タッチパネルによる簡単操作や高精度なプロセス制御、Windows PCとの接続によるデータ管理機能なども備えています。製造・加工機械や半導体製造装置に求められる高いパフォーマンスに応えます。
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』は、高機能かつコストパフォーマンスに優れた研究開発用装置です。到達圧力5 x 10-5Paまで最速30分で、連続多層膜制御や同時成膜などの機能を備えています。さらに、最大3源のスパッタ源や多彩なオプションを組み合わせることで、多目的に使用可能。また、7"タッチパネルによる簡単操作や高精度なプロセス制御、Windows PCとの接続によるデータ管理機能なども備えています。製造・加工機械や半導体製造装置に求められる高いパフォーマンスに応えます。
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