デバイス開発や材料開発に適した装置です。基板サイズは最大300mmに対応し、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室など、目的に応じて自由に選択できます。大気に触れずに処理ができ、前処理から成膜、封止までの工程をカバー。さらに、蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能であり、CVD室やスパッタ室との組み合わせも可能です。カスタムオーダーメイドも対応します。
デバイス開発や材料開発に適した装置です。基板サイズは最大300mmに対応し、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室など、目的に応じて自由に選択できます。大気に触れずに処理ができ、前処理から成膜、封止までの工程をカバー。さらに、蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能であり、CVD室やスパッタ室との組み合わせも可能です。カスタムオーダーメイドも対応します。
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