製造・加工機械の半導体製造装置に特化した製品を提供しています。その中でも注目すべきは、コンパクトながら高性能な卓上ホットプレートです。フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要な要素があり、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が求められる先端プロセスや、温度依存性の高い材料のプロセス開発において非常に重要視されています。また、タイマー制御により正確な時間管理とウェーハ間の均一な熱処理を実現しました。高温350℃モデルも用意されており、必要に応じて卓上クールプレートも利用できるなど、要求の厳しい半導体製造において信頼性の高い製品です。
製造・加工機械の半導体製造装置に特化した製品を提供しています。その中でも注目すべきは、コンパクトながら高性能な卓上ホットプレートです。フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要な要素があり、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が求められる先端プロセスや、温度依存性の高い材料のプロセス開発において非常に重要視されています。また、タイマー制御により正確な時間管理とウェーハ間の均一な熱処理を実現しました。高温350℃モデルも用意されており、必要に応じて卓上クールプレートも利用できるなど、要求の厳しい半導体製造において信頼性の高い製品です。
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