装置独自の構造により、ワーク裏面への液の回り込みを窒素圧で封じ込めることができます。従来の横洗浄方式とは異なる縦型洗浄方式採用し、装置寸法のコンパクト設計や異サイズウェハーの兼用機も可能です。高圧スプレー可能なスプレー方式を採用し、薬液の循環や温度管理、濃度管理もご利用いただけます。真空チャックとN2ガス噴射併用やN2ガス噴射とガイドピンを使用し、乾燥にはスピンやN2ブローを採用。詳細はPDF（カタログ）をダウンロードするか、お問い合わせください。