電子ビーム描画装置の製品一覧
「ELBS-150」は、ECR放電型ラインビームイオン源であり、独創的な磁路設計による均一な長尺イオンビームを提供しています。大型同軸導入端子による大電力マイクロ波駆動とメタルコンタミフリーの誘電体ライニングが特徴。磁気ヘッドのミリング加工や高周波回路のトリミング調整に使用することができます。詳細はPDF資料をご覧いただくか、お問い合わせください。
株式会社シロ産業が開発したM1170NMSH-7LAは、波長635ｎｍ（赤色）を使用した非接触の光ケ引装置です。超小型で軽量ながら、収束性が良く長寿命を実現しています。製材や木工、建材などの分野で、切断時の直線出しや位置合わせなど、幅広い用途で使用に最適です。
有限会社メガトラストは自社で放出ガス評価、磁場測定評価を行なっており、真空・非磁性アプリケーションに対して正確な仕様の製品を提供可能です。製造・加工機械、半導体製造装置、電子ビーム描画装置などに最適な製品である真空非磁性超音波モータ ＜US36＞を提供しています。
μ-Beamは、空間電荷を考慮した荷電粒子の３次元軌道解析モジュールで、イオンビーム制御をシミュレーション出来ます。μ-Beamはミューテックの電磁界解析システムμ-ＭＦの中の軌道解析モジュールです。静電場や静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮します。電界および磁界中の荷電粒子の軌道解析や初期条件の設定機能、条件設定のデータ読み込み機能、計算範囲の指定と自動計算ストップ機能、古典論および相対論効果の考慮が特徴としてあげられます。軌道計算法にはRungeKuttaを採用。
製造・加工機械や半導体製造装置などに使用するミリング装置用のアンペア級イオン源です。耐熱性と低スパッタ率の電極材料を採用しており、低エネルギーアンペア級イオンビームを発生させることができます。荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化も行っており、お客様の要望に合わせたオーダーメイドも可能。
製造・加工機械や半導体製造装置に最適な光学式外観検査装置です。この装置は、スルーホールやレーザービア（LVH）の検査において高い実績を持ち、ハイエンド基板向けに開発されました。特徴は、スルーホールやレーザービアをパターンと同時に全穴検査できる点、新開発の照明系により高精度な検査が可能な点、パッド・ラインごとに条件設定ができることで欠陥検出の精度が向上する点、フロントソフトウェアの短時間セットアップが可能な点です。
株式会社ミューテックのμ-Beamは、電界および磁界中の荷電粒子の軌道解析ができるソフトウェアです。静電場や静磁場内でのイオン軌道や電極、導体、コイルなどを考慮したシミュレーションが可能。μ-Beamはミューテックの電磁界解析システムμ-MFの中の軌道解析モジュールとして提供されており、初期条件の設定や計算範囲の指定などの機能が備わっています。
有限会社メガトラストは製造・加工機械、半導体製造装置、電子ビーム描画装置などの真空非磁性アプリケーションに特化した企業です。当社では放出ガス評価、磁場測定評価を行い、的確な仕様の真空・非磁性アプリケーションを提供。真空非磁性 ＵＳＭ駆動ユニット＜特注＞も製造しております。
『Ledia6』は、モバイル端末に搭載される基板の高密度・高精細化やカーエレクトロニクス向けの多様な基板へのニーズに対応する直接描画装置です。3波長の光源を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可能。また、独自のアライメントアルゴリズムを装備し、高精度な仕上がりと最高レベルのスループットを実現します。UV-LED複数波長露光、高品質な露光、高速アライメント、高付加価値分野対応の描画品質などの特長を備えています。
デジタル圧力センサ370/470は、絶対圧、ゲージ圧、気圧を±0.02％FSの高い精度で計測することができます。長期安定性にも優れており、圧力基準器として使用することも可能です。セトラ社独自のセラムセンサ（特許技術）と先進的なデジタル回路とファームウェアが組み合わされ、高精度なシステムがコンパクトで低消費電力にまとめられています。
5"6"9"マスクケースは、半導体製造装置や電子ビーム描画装置におけるフォトマスクの搬送に最適な製品です。帯電防止材料を使用しており、安全かつ信頼性の高い搬送が可能。ケースは積み重ねることもできるので効率的な保管ができます。詳細はURLをご覧いただくか、お問い合わせください。
株式会社ミューテックのμ-Beamは、空間電荷を考慮した荷電粒子の3次元軌道解析モジュールです。イオンビーム制御のシミュレーションが可能で、電界や磁界中の荷電粒子の軌道を解析することができます。μ-Beamは、ミューテックの電磁界解析システムμ-MFの中の軌道解析モジュールとして使用されます。特徴として、荷電粒子の初期位置や速度、担当電流量の入力機能、Excelからの条件設定や計算範囲の指定などがあり、古典論や相対論効果を考慮した軌道解析も行えます。