フォトマスクの製品一覧

竹田東京プロセスサービス株式会社は、ガラス、シリコン、セラミック、各種金属に対して高精度な微細加工を行うマイクロブラスト加工を提供しています。ガラスマスクへのマイクロブラスト加工の活用例について、詳細な情報を技術資料として公開。加工にお困りの方は、お問い合わせください。

日本フイルコン株式会社は、製造・加工機械を用いたフォトマスクの製造に特化した企業です。9インチマスクの精度は世界最高レベルで、大手パッケージメーカーへの実績も豊富です。MPU向けBGA、ICパッケージ周辺回路、液晶ドライバ向けIC実装など、激しい世代交代が求められる分野にも対応可能。迅速な納期対応と大きなサイズのマスクへの対応力が強みであり、現在進む高精細化のトレンドにも迅速に対応しています。

製造・加工機械の部品を専門に取り扱っています。半導体製造装置やフォトマスクなど、多様な装置部品を1個から承ります。当社の強みは、材料込みの全加工から焼入れ・研磨・表面処理まで、部品調達の全工程を一括で対応している点です。マシニングや旋盤、板金、ワイヤー加工など、あらゆる加工内容にも対応し、即日で無償の見積もりを提供しています。図面がなくても現品からスキャンニングによる製図も可能です。

半導体向けのフォトマスクの製造・加工機器を提供しています。ディスクリート、パワーデバイス、ASIC、マイコンなど、0.35µmルールを中心とした多くのレチクルを納入しており、大手半導体メーカーにも多数の納入実績があります。高品質な描画機と検査装置を備え、熟練した技術スタッフが特殊な要望にも対応します。EBデータやGDSIIの受付も可能で、裏面や後工程向けにも高精度なマスクが製作できます。

はんだ印刷用マスク「フレックスマスク」は、マスク素材の柔軟性を活かし、基板表面の凹凸への高い密着性を実現。これにより、半田にじみや半田裏回りを抑制し、優れた印刷が可能となります。PET素材を使用し、はんだ滲みを抑制する特長もあります。

SMIF ポッド(SMIF POD) (マルチ／シングルタイプ)は、半導体前工程のリソグラフィー工程でレチクルを保護するために使用されます。静電対策を徹底し、レチクルの磨耗や機械的衝撃による損傷のリスクを最小限に抑える独自の機構を備えています。剛性と耐久性が強化された金属製のポッドで、低発塵かつ洗浄しやすいライナーレス設計です。また、大手露光装置メーカーにより認可されており、超音波洗浄や純水洗浄装置にも適合しています。温風ノズルや放射式真空乾燥オーブンにも対応しており、使用時温度は18℃〜30℃で、乾燥時の最高温度は60℃（均一）です。国内外のデバイスメーカーによっても採用実績があります。

光デバイス（オプト）の製造・加工機械に特化した企業です。製品には、光導波路の実績が多数あるAWGやPLCなどがあります。また、光デバイス業界の主要メーカーとの幅広い実績も持っており、光半導体の市場の拡大に対応する製品をご提供中。熟練した技術者がお客様の問題にいつでも挑戦し、光デバイスの特性を最大限に引き出すことを目指しています。 【特長】 - 光導波路の実績が多数ある（AWG、PLCなど） - デバイス特性を出す上で何が重要かを把握している - 光デバイス業界の主要メーカーの実績が多数ある - 熟練した技術者がお客様の問題にいつでも挑戦

最先端のマスクレステクノロジーを特徴とし、お求めやすい価格設定と柔軟性あるカスタマイズが可能です。マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、材料科学など、微細構造が必要な研究開発領域に最適な描画装置となります。

フォトマスクは、電子デバイスやディスプレイ、プリント基板などを製造する際に使用されるツールです。長年の歴史と先端技術を結集し、信頼性が高く高精度なフォトマスクを提供しています。CPUやメモリなどの半導体デバイスや、プリント基板、液晶など、様々な用途に使用されるのが特徴。

竹田印刷は、印刷技術を核にして、半導体関連のマスク製造やソフト開発、広告制作など、幅広い事業領域で活動。さらに物流サービスや事務用品の輸出入も手掛け、成長を続けています。商業用・出版用印刷物の企画・デザイン・印刷、マルチメディア関連の企画・制作、ネット販売も行っているのが特徴。お客様のニーズに幅広くお応えしています。

株式会社ソフエンジニアリングが提供する製造・加工機械は、半導体製造装置やフォトマスクに特化しています。その中でも、大型基板に対応する全自動フォトリソ処理装置はG8.5世代基板にも適応し、1.3m X 1.5m X 15mmまでの基板を処理することが可能。フォトリソプロセスの一貫処理も実現しており、LDから現像、エッチング、剥離、洗浄、ULDまでを一括して行うことができます。国内の複数メーカーでの実績もあります。

竹田東京プロセスサービス株式会社は、製造・加工機械および半導体製造装置向けの静電破壊対策用Crガラスマスクを提供しています。このマスクは、帯電物によるパターン破壊を抑制し、高い歩留まり率による安定した品質・コスト・納期を実現します。さらに、大量露光回数にも耐え、マスクの取り替えコストを削減し、生産効率向上に貢献します。静電破壊対策の豊富な仕様品を提供し、高い除電性能を持つフォトマスクを工期を短縮して提供します。