新しい薄膜技術に基づくプラチナ抵抗素子を使用した測温抵抗体(RTD)です。プラチナ膜構造をセラミック基板に配置し、ガラスコーティングで不動態化。使用温度範囲は-50℃から+600℃まで広く対応しており、基準公称抵抗値は100Ωおよび1000Ωです。さらに、様々なスペース要件に適合する幅広い外形寸法を用意しています。高性能なプラチナRTDでありながら、低熱質量による高速な応答時間を実現。
新しい薄膜技術に基づくプラチナ抵抗素子を使用した測温抵抗体(RTD)です。プラチナ膜構造をセラミック基板に配置し、ガラスコーティングで不動態化。使用温度範囲は-50℃から+600℃まで広く対応しており、基準公称抵抗値は100Ωおよび1000Ωです。さらに、様々なスペース要件に適合する幅広い外形寸法を用意しています。高性能なプラチナRTDでありながら、低熱質量による高速な応答時間を実現。
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