株式会社テクノビジョンが開発した全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全に除去することができます。特にレジスト除去については、大手薬品メーカーとの共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させました。オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけで操作が完了し、危険な薬品に触れることがありませんので、安全性が高まります。この装置は露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献します。