『TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ』は、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。飛沫フリーのスパッタリングや薄膜の不具合低減などの利点を持ち、コンパクトな寸法にもかかわらず容易にシステム統合が可能です。さらに、金属イオンエッチングや半導体用途にも利用できる独特なイオン特性という特徴もあります。
『TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ』は、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。飛沫フリーのスパッタリングや薄膜の不具合低減などの利点を持ち、コンパクトな寸法にもかかわらず容易にシステム統合が可能です。さらに、金属イオンエッチングや半導体用途にも利用できる独特なイオン特性という特徴もあります。
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