株式会社アイテスは、半導体デバイス、MEMS、TFTなどのナノスケールの精度で製造されるエレクトロニクス製品の構造解析を行うための新たな手法として、クロスビームFIBによる断面観察をご提案しています。クロスビームFIBでは、FIB加工をリアルタイムで観察しながら断面観察が可能であり、高い精度と効率を実現しています。
株式会社アイテスは、半導体デバイス、MEMS、TFTなどのナノスケールの精度で製造されるエレクトロニクス製品の構造解析を行うための新たな手法として、クロスビームFIBによる断面観察をご提案しています。クロスビームFIBでは、FIB加工をリアルタイムで観察しながら断面観察が可能であり、高い精度と効率を実現しています。
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